電子氣體、氣體供應係統分類簡析及流量和壓力控製產品

  氣體(ti) 是電子工業(ye) 的“血液"，尤其在半導體(ti) 、光伏、光纖、顯示器等行業(ye) 中是關(guan) 鍵性材料。例如，在集成電路製造中氣體(ti) 的占比僅(jin) 次於(yu) 矽片，占晶圓製造成本的13%。主要應用於(yu) 薄膜、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴散等工藝。

  電子工業(ye) 涉及的氣體(ti) 品種繁多，用途五花八門，它的分類方法亦較為(wei) 複雜。簡單的按氣體(ti) 特性區分，則一般可將電子氣體(ti) 及其氣體(ti) 供應係統可分為(wei) 大宗氣體(ti) 供應和特種氣體(ti) 供應，前者為(wei) 使用量較大的氣體(ti) ，如N2，CDA (幹燥壓縮空氣)等，後者為(wei) 使用量相對較小的氣體(ti) ，如高純 SiH4、PH3、AsH3、B2H6、N2O、NH3、SF6、NF3、CF4、BCI3、BF3、HCI、CI2 等。

一、大宗氣體(ti) 供應係統：

1、大宗氣體(ti) 的分類和應用：

大宗氣體(ti) 是氮氣、氫氣、氧氣、氬氣、氦氣的統稱。它們(men) 的用途簡單總結如下:

① 氮氣主要用於(yu) 設備吹掃、稀釋原料氣，提供惰性氣體(ti) 環境以及化學品輸送壓力來源；

② 氫氣主要被用於(yu) 為(wei) 設備提供燃燒介質以及作為(wei) 還原反應氣體(ti) ；

③ 氧氣主要被用作氧化劑，或供給臭氧發生器所需的氧氣;

④ 氬氣主要被作為(wei) 熱傳(chuan) 導介質，為(wei) 設備腔體(ti) 提供惰性氣體(ti) 環境;

⑤ 氦氣主要用於(yu) 對設備中產(chan) 品的冷卻。 

2、大宗氣體(ti) 供應係統的組成：

大宗氣體(ti) 供應係統包括製氣站和氣體(ti) 純化站。

①製氣站主要包括製氣設備、壓縮儲(chu) 存設備、灌充設備和輔助設備等。

②氣體(ti) 純化站主要包括大宗氣體(ti) 純化設備、氣體(ti) 過濾器、輸送管道和輔助設施等。

源於(yu) 製氣站的大宗氣體(ti) 通過氣體(ti) 純化設備、顆粒物過濾器後生成高純度的大宗氣體(ti) 供廠房內(nei) 設備使用。

二、特種氣體(ti) 供應係統：

   特種氣體(ti) 是電子工業(ye) 製造中重要的原材料，主要用於(yu) 氧化、摻雜、氣相沉積、擴微等工藝。按氣體(ti) 性質一般分為(wei) 不燃性氣體(ti) 、毒性氣體(ti) 、易燃性氣體(ti) 、腐蝕性氣體(ti) ，並分別放置於(yu) 不同的化學品站內(nei) 。

特種氣體(ti) 供應係統一般包括：氣瓶櫃(Gas Cabinet, GC) ；氣瓶架(Gas Rack, GR)；

特殊氣體(ti) 大量供應係統( Bulk Specialty Gas Supply System, BSCS)；混氣( Mixer )係統；

VDB( Valve Distrbution Box )主閥箱/VDP ( Valve Distribution Panel )主閥盤；

VMB ( Valve Manifld Box)分閥箱/分閥盤VMP (Vabe Mmi Pan )。

以下是某特種氣體(ti) 供應係統流程圖：

三、電子氣體(ti) 的流量及壓力控製：

   在電子工業(ye) 生產(chan) 製造環節中，對於(yu) 上述氣體(ti) 的流量及壓力控製的精確度和穩定性等性能要求很高，以往大部分使用進口品牌的設備以及氣體(ti) 質量流量控製器MFC及壓力控製器PC，尤其是半導體(ti) 行業(ye) 。

   近幾年，由於(yu) 受到限製因素影響，國產(chan) 的設備商或生產(chan) 商已經在逐步考慮國產(chan) 品牌質量流量控製器及壓力控製器的替代，尤其是對於(yu) 上述大宗氣體(ti) 供應係統。

   我司的氣體(ti) 質量流量控製器MFC、壓力控製器PC，以及液體(ti) 質量流量控製器已經逐步參與(yu) 到擴散/退火、離子注入、刻蝕、氣相沉積等大部分工藝中。有部分產(chan) 品已出口到國外的電子工業(ye) 相關(guan) 的企業(ye) 。 

液體(ti) 質量流量控製器，介質：TEOS / TEB / TEPO

氣體(ti) 質量流量控製器，介質：SiCl4

壓力控製器，介質：氬氣